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XCH Biomedical 真空乾燥オーブンは、小さな部品の乾燥や可燃性溶剤の除去など、デリケートな乾燥プロセスに最も一般的に使用されています。低圧環境は、乾燥プロセス中の酸化を最小限に抑えることもできます。アプリケーションには、乾燥、硬化、エージング、真空埋め込み、および電気めっきが含まれます。真空デジタル表示、標準真空ポンプ。生化学、化学薬品、医療、農業、環境保護などの電子製品や研究応用分野で広く使用されています。

カテゴリー
  • Laboratory Drying Oven, High Precision Drying Ovens, Vacuum Drying Oven
    実験室用真空乾燥器 ポンプ付 420L
    Temperature:RT+10℃~200℃

    XCH 6500ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。


    モデル: XCH-6500ZK

    環境温度:+5 ~ 35℃
    温度変動:±1.0℃

    温度精度:±0.1℃

    電源: AC 220V±10% 50HZ

    真空度:真空インジケータ表示

  • Laboratory Drying Oven, High Precision Drying Ovens, Vacuum Drying Oven
    実験室用真空乾燥器 ポンプ付 210L
    Temperature: RT+10℃~200℃

    XCH 6210ZK ラボ用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。


    モデル: XCH-6210ZK

    環境温度:+5 ~ 35℃
    温度変動:±1.0℃

    温度精度:±0.1℃

    電源: AC 220V±10% 50HZ

    真空度:真空インジケータ表示

  • Laboratory Drying Oven, High Precision Drying Ovens, Vacuum Drying Oven
    実験室用真空乾燥器 ポンプ付 90L
    Temperature:RT+10℃~200℃

    XCH 6090ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。


    モデル: XCH-6090ZK

    環境温度:+5 ~ 35℃
    温度変動:±1.0℃

    温度精度:±0.1℃

    電源: AC 220V±10% 50HZ

    真空度:真空インジケータ表示

  • Laboratory Drying Oven, High Precision Drying Ovens, Vacuum Drying Oven
    ポンプ付き実験室真空乾燥オーブン
    TEMP Range: RT+10℃~200℃

    XCH 6050ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。


    モデル: XCH-6050ZK

    環境温度:+5 ~ 35℃
    温度変動:±1.0℃

    温度精度:±0.1℃

    電源: AC 220V±10% 50HZ

    真空度:真空インジケータ表示

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