XCH 6500ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。
モデル: XCH-6500ZK
環境温度:+5 ~ 35℃
温度変動:±1.0℃
温度精度:±0.1℃
電源: AC 220V±10% 50HZ
真空度:真空インジケータ表示
XCH 6210ZK ラボ用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。
モデル: XCH-6210ZK
環境温度:+5 ~ 35℃
温度変動:±1.0℃
温度精度:±0.1℃
電源: AC 220V±10% 50HZ
真空度:真空インジケータ表示
XCH 6090ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。
モデル: XCH-6090ZK
環境温度:+5 ~ 35℃
温度変動:±1.0℃
温度精度:±0.1℃
電源: AC 220V±10% 50HZ
真空度:真空インジケータ表示
XCH 6050ZK 実験室用高精度真空乾燥オーブンは、温度またはガスに敏感な真空乾燥および保管に使用されます。真空乾燥炉は、電子製品の製造工程における洗浄処理後の脱泡、脱水、硬化、乾燥など、真空環境下で高温の場所に適しています。
モデル: XCH-6050ZK
環境温度:+5 ~ 35℃
温度変動:±1.0℃
温度精度:±0.1℃
電源: AC 220V±10% 50HZ
真空度:真空インジケータ表示
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